反射膜厚仪

　　可在几秒钟内完成高精度的薄膜厚度测量，实现便捷高效的无损测量。其基本原理是：光源发出的光经光纤导出后照射在样品表面，样品表面与基底反射的光产生干涉，通过其相位变化与波程差可测量薄膜厚度及光学常数。相比于其他的薄膜厚度测量仪器，具有经济适用，构造及维护简单，使用方便等优点。

　　F20反射膜厚仪单点测量系统

　　样品要求：透明或半透明薄膜

　　薄膜厚度：1nm~3mm

　　基底（厚度测量）：表面光滑，可反射光线

　　基底（光学常数测量）：平整，镜面反射

　　可测量多层薄膜样品

　　膜厚、折射率和消光系数

　　设定扫描图案，自动测量，速度2point/s

　　内置多种图案，用户可自建扫描图案

　　全自动XY工作台

　　F30在线厚度测量系统

　　测量速度快，可实时监控薄膜沉积生长情况

　　测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性

　　精度＜±1%

　　非接触式测量，可以在沉积室进行测量

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